半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例
项目流程视频背景
该公司为亚洲顶尖的半导体材料公测公司,坐落珠四角地段,大部分参与中档集成ic的划区和装封检查。致使地方安全的标准按照严格,公司决策推行污水无废气排放出工程建筑。顶目于明年启动的,202五年6月竣工投入使用,补救投资者额为200吨/日,总投资者约2000万是。
电镀废水部分及由来
此项作用小学划片废渣兼具下列亮点:
高氨水溶度氟化物,主耍出自晶圆激光切后的洗涤加工过程,氟正离子氨水溶度高达独角兽150-200mg/L
包含的纳米级级硅粉科粒,粒度分布多在100-500nm彼此
有机化学工况较高,COD在500-800mg/L
有微量分析高价属如铅、镉等
水的电导率高,一般是在2000-3000μS/cm
进行处理工序注意事项
为实行零污染物对象,工艺设备设计的着重点思考生产废水区分提取和资原出售:
污水各类自身机系统
:将含氟废气与别的废气合在一起收录
耐腐蚀石雕文化沉淀除氟
:使用有级钙盐水解法,协助高效能水解池
高等 氧化反应治理
:三氧催化脱色脱色光降解难操作设计物
膜浓缩咖啡设计
:选用DTRO碟管式反渗透装置工作会更,溶缩公因数为10倍
减压蒸馏晶体
:MVR机戒蒸汽发生器再减小蒸发掉器治理 浓水
晾干系统性
:将析出盐低温干燥后最为工业化副的产品外售
外理使用效果
操作系统作业数剧显示信息:
氟化物弄掉率>99.9%,水流氟亚铁离子<1mg/L
COD总清理率>98%,溢水COD<20mg/L
水自然资源回收处理率>95%,仅制造一些凝结盐
第二年可收废高品控中水回用水约七万吨
析出盐溶解度以达到工業级标准单位,实现了教育污泥处置利用
工作不进行了废水处理工艺零减排,还经由影视资源出售创造自己了约80万元左右/年的特别金币。